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发明名称
遮罩栅极沟槽技术中基于电阻来测定蚀刻深度
摘要
本发明公开了一种测定蚀刻深度的方法,一种形成遮罩栅极沟槽(SGT)结构的方法和一种半导体装置晶圆。在具有沟槽的底层的一部分上形成材料层。用材料填充所述的沟槽。在材料层的测试区域上放置抗蚀性涂层,从而定义位于抗蚀性涂层之下的测试结构。抗蚀性涂层不覆盖沟槽。同向蚀刻材料,测量与测试结构电阻改变有关的信号。通过信号测定测试结构的横向底切DL,通过DL测定蚀刻深度DT。晶圆包括形成电桥的一个或多个测试结构。穿过连接洞的一个或多个金属连接线电连接所述的测试结构。所述的抗蚀性涂层在测试结构之上。
申请公布号
TWI384567
申请公布日期
2013.02.01
申请号
TW097110275
申请日期
2008.03.21
申请人
万国半导体股份有限公司 百慕达
发明人
李铁生;王宇;楼颖颖;安荷 叭剌
分类号
H01L21/66;H01L21/336;H01L29/78
主分类号
H01L21/66
代理机构
代理人
蔡清福 台北市中山区中山北路3段27号13楼
主权项
地址
百慕达
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