| 发明名称 |
一种用于待生剂上焦炭气化制合成气的再生器 |
| 摘要 |
一种用于待生剂上焦炭气化制合成气的再生器。再生器沿垂直方向从下至上依次为氧化段（2）、还原段（4）、沉降段（7），所述氧化段（2）的直径小于还原段（4）的直径，所述沉降段（7）的直径大于等于还原段（4）的直径，在还原段（4）的上部设置待生剂进料口（5），在氧化段的底部设置气化剂入口（1），在氧化段的下部设置再生剂出口（10），再生器顶部设置气化气出口（9）。该再生器可以解决现有再生器中气化产物二次反应不易控制、待生剂上炭含量低时消碳速率很低的问题。 |
| 申请公布号 |
CN202700507U |
申请公布日期 |
2013.01.30 |
| 申请号 |
CN201220355497.5 |
申请日期 |
2012.07.20 |
| 申请人 |
中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院 |
发明人 |
张书红;王子军;龙军;李延军;李子锋;申海平;朱丙田;汪燮卿 |
| 分类号 |
B01J38/40(2006.01)I;C10J3/00(2006.01)I |
主分类号 |
B01J38/40(2006.01)I |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
一种用于待生剂上焦炭气化制合成气的再生器，其特征在于，再生器沿垂直方向从下至上依次为氧化段（2）、还原段（4）、沉降段（7），所述氧化段（2）的直径小于还原段（4）的直径，所述沉降段（7）的直径大于等于还原段（4）的直径，在还原段（4）的上部设置待生剂进料口（5），在氧化段的底部设置气化剂入口（1），在氧化段的下部设置再生剂出口（10），再生器顶部设置气化气出口（9）。 |
| 地址 |
100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号 |
