| 发明名称 | 吸收剂以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种吸收剂以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层，更具体而言，涉及一种可以应用于挠性基板的吸收剂，其阻挡水进入，不阻挡光，以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层。此外，本发明涉及一种吸收剂，通过使用惰性溶剂合成的化合物，使对光学元件的损害最小化，而能够长时间保持发光性能，本发明涉及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层。 | ||
| 申请公布号 | CN102905785A | 申请公布日期 | 2013.01.30 |
| 申请号 | CN201180025510.9 | 申请日期 | 2011.06.30 |
| 申请人 | 可隆工业株式会社 | 发明人 | 金石基;徐荣成;尹景根 |
| 分类号 | B01J20/22(2006.01)I;C07F5/00(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I | 主分类号 | B01J20/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 黄丽娟;陈英俊 |
| 主权项 | 1.一种吸收剂，包含使用惰性溶剂制备的由下面化学式1表示的化合物：化学式1：<img file="FDA00002451280200011.GIF" wi="739" he="338" />其中，所有R<sub>1</sub>彼此可以是相同或不同的基团，选自C数为至少10的烷基、环烷基和芳基中；M选自三价金属中；以及X是1～1000的整数。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||