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发明名称
METHOD AND DEVICE FOR TREATING EXHAUST GAS
摘要
<p>실리콘계가스를 사용하는 CVD 장치로부터 배출되는 배기 가스에 포함되는 원료가스나 고비점중간생성물을, 소정온도로 가열한 니켈 등의 전이금속 혹은 그 규소화합물에 배기 가스를 접촉시킴으로써, 안정된 할로겐화물로 분해 혹은 전화시키고 나서, 배기 가스 중의 유해성분을 무해화처리하는 배기 가스의 처리방법 및 장치이다.</p>
申请公布号
KR100344698(B1)
申请公布日期
2002.07.20
申请号
KR19997007337
申请日期
1999.08.13
申请人
닛폰산소 가부시키가이샤;오미 다다히로
发明人
오미다다히로;이시하라요시오;마쓰모토고;기미지마데쓰야
分类号
B01D53/86
主分类号
B01D53/86
代理机构
代理人
主权项
地址
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