加热装置及采用该加热装置之真空镀膜设备

摘要

本发明涉及一种加热装置及采用该加热装置之真空镀膜设备。该加热装置包括：至少一灯管，其位于工件之一侧；一可旋转之反射罩，该反射罩位于灯管远离工件之一侧，其具有一聚焦反射面，该聚焦反射面朝向该灯管；及一控制该反射罩旋转方向之外置控制器。采用本发明加热装置之真空镀膜设备镀膜均匀性高，且加热待镀工件之速率快。