| 摘要 |
本发明系提供一种以高能量线曝光时，具有高感度、高解像性，可抑制显像时之膨润，因此线边缘粗糙度小，显像后之残渣较少之正型光阻材料。;本发明系一种正型光阻材料，其特征为含有：至少含有下述一般式(a)及(b)表示之重复单位的高分子化合物，;(a) (b);(式中，R1为相同或不同之氢原子或甲基，R2为羟基或被酸不安定基取代之羟基、羧基、或被酸不安定基取代之羧基，R3为酸不安定基或具有内酯之密着性基，X为单键或碳数1~6之直链状或支链状之伸烷基，可具有酯基或醚基，m为1或2；a、b为0<a<1.0；0<b≦0.8的范围)。 |
