微影投射装置之焦点测量方法及微影投射装置之校准方法

摘要

本发明揭示一种用于一微影投射装置之焦点测量方法，其包括曝光一具有复数个验证场之光阻覆盖之测试基板。该等验证场中之每一者包括复数个验证标记，且使用一预定焦点偏移FO来曝光该等验证场。在显影之后，测量该等验证标记中之每一者的一对准偏移且使用一转置焦点曲线而将其转译成散焦资料。根据本发明之该方法导致比目前调平验证测试(LVT)高约50倍之一焦点相对于对准移位敏感度(通常为d(X,Y)/dZ=20)。