Verfahren und Vorrichtung zur Positionsbestimmung von Strukturen auf einer Maske für die Mikrolithographie

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorr einer Maske für die Mikrolithographie, wobei die Positionsbestimmung auf Basis des Vergleichs eines mittels einer Aufnahmeeinrichtung (306) gemessenen Luftbildes eines Ausschnitts der Maske (301) mit einem durch Simulation ermittelten Luftbild erfolgt. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass die Positionsbestimmung die Durchführung einer Mehrzahl solcher Vergleiche umfasst, welche sich hineinander unterscheiden.