| 摘要 |
本发明提供工业上容易以大体积生产之替妥牟拉晶体。(1)一种替妥牟拉(tetomilast)水合物晶体，其系具有实质上与图2中所显示的粉末X射线绕射光谱相同之粉末X射线绕射光谱；(2)一种无水替妥牟拉A型晶体，其系具有实质上与图4中所显示的粉末X射线绕射光谱相同之粉末X射线绕射光谱；(3)一种无水替妥牟拉C型晶体，其系具有实质上与图8中所显示的粉末X射线绕射光谱相同之粉末X射线绕射光谱；(4)一种替妥牟拉乙溶剂合物晶体，其系具有实质上与图10中所显示的粉末X射线绕射光谱相同之粉末X射线绕射光谱；和(5)一种混合物，其系由上述无水替妥牟拉A型晶体和无水替妥牟拉B型晶体组成。这些晶体对热和水分稳定，且自锭剂之崩解性质和溶解性质之观点也是优异的。因此，这些晶体较佳地用作医药组成物。 |
