微影蚀刻投影曝光装置

摘要

一种微影蚀刻投影曝光装置，包含用来照明一目标平面中之一目标场之数个目标场点的照明光学。就该目标场的每一目标场点而言，该照明光学具有结合该目标点的一出射光瞳，其中sin(γ)系为该出射光瞳的一最大边缘角值（angle value），且其中该照明光学包含一多镜阵列（38），其包含用来调整结合到该该等目标场点之该出射光瞳中一强度分布的一复数个镜子（38s）。该照明光学进一步包含至少一光学系统（33a；33b；33c；3d；400；822；903；1010；1103；1203）以用来暂时性稳定该多镜阵列（38）的照明，以致于就每一目标场点而言，在根据相关出射光瞳之该最大边缘角值sin（γ）来表示小于2%之一重心角值sin（β）的情形中、与/或在椭圆率小于2%的情形中，与/或在极平衡小于2%的情形中，在相关出射光瞳中的强度分布会偏离在相关出射光瞳中的期望强度分布。