发明名称 单层多晶非易失性存储器单元
摘要 本发明公开了一种单层多晶非易失性存储器单元,包括:半导体衬底;耦合电容器,其位于半导体衬底的第一有源区中;以及检测晶体管和隧道电容器,均位于共享的半导体衬底的第二有源区处,隧道电容器与检测晶体管的栅极并联配置;其中,耦合电容器、检测晶体管和隧道电容器共享一个共用的浮置栅电极,并且检测晶体管包括源极区和漏极区,它们被配置为使得隧道电容器由介于浮置栅电极与检测晶体管的源极区之间的重叠区域来限定。字线接触块可以是与耦合电容器分隔开的有源区。这些和/或其他特征可有助于降低夫伦克尔-普尔导电机制。
申请公布号 CN102881692A 申请公布日期 2013.01.16
申请号 CN201210193196.1 申请日期 2012.06.12
申请人 剑桥硅无线电有限公司 发明人 赖纳·赫贝霍尔茨
分类号 H01L27/115(2006.01)I 主分类号 H01L27/115(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 余刚;吴孟秋
主权项 一种非易失性存储器单元,包括:半导体衬底;耦合电容器,其位于所述半导体衬底的第一有源区中;以及检测晶体管和隧道电容器,均位于所述半导体衬底的共享的第二有源区处,所述隧道电容器与所述检测晶体管的栅极并联配置;其中,所述耦合电容器、所述检测晶体管和所述隧道电容器共享一个共用的浮置栅电极,并且所述检测晶体管包括源极区和漏极区,所述源极区和所述漏极区被配置为使得所述隧道电容器由所述浮置栅电极与所述检测晶体管的源极区之间的重叠区域来限定。
地址 英国剑桥
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