| 发明名称 | 包括微结构化表面的抗反射膜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及抗反射膜，其包含高折射率层(60)和设置在所述高折射率层上的低折射率层(80)。所述抗反射膜具有可得自微复制工具的微结构化表面(70)。 | ||
| 申请公布号 | CN102884453A | 申请公布日期 | 2013.01.16 |
| 申请号 | CN201180023032.8 | 申请日期 | 2011.05.03 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 小克里斯托弗·B·沃克;克里斯托弗·P·特伯;特里·D·范;史蒂文·H·孔;约瑟夫·T·阿伦森;凯尔·J·林德斯特伦;迈克尔·K·格拉赫;米歇尔·L·托伊;陶恩·L·麦肯齐;安东尼·M·伦斯特;罗伯特·A·亚佩尔;米切尔·A·F·约翰逊 |
| 分类号 | G02B1/10(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 张爽;郭国清 |
| 主权项 | 一种抗反射膜，其包含高折射率层和设置在所述高折射率层上的低折射率表面层；其中所述低折射率层包括具有补足的累积倾斜度值分布的多个微结构，以使得至少30%具有至少0.7度的倾斜度值，至少25%具有小于1.3度的倾斜度值，并且所述抗反射膜不含嵌入的哑光粒子。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||