发明名称 基板处理装置之复原处理方法,基板处理装置,程式
摘要 〔课题〕;因在基板处理装置之作业中产生异常,作业被停止之际,能节省该基板处理装置之复原处理的时间和麻烦,还能尽量补救许多残留在基板处理装置内的被处理基板。;〔解决手段〕;针对由至少包含用来处理从卡匣容器被搬送的晶圆(W)之处理室的复数个室所形成的基板处理装置,并于因在该基板处理装置之作业中产生异常,作业被停止之际,在该异常解除后,使基板处理装置之状态复原的基板处理装置之复原处理方法,具有:对残留在基板处理装置之各室内的晶圆(W),进行对应实行于至作业停止为止所被实行之处理的阶段的基板补救处理,并使被处理基板往卡匣容器回收的基板回收工程(步骤S110~步骤S150),和使基板处理装置之各室内的状态复原的装置内状态复原工程(步骤S160等)。
申请公布号 TWI382482 申请公布日期 2013.01.11
申请号 TW095102491 申请日期 2006.01.23
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 清水宣昭
分类号 H01L21/66;H01L21/3065;G06F19/00 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本