| 摘要 |
本发明揭示一种热处理装置，其包含：一反应容器；一加热单元，其系布置于该反应容器内并且经组态用以加热该处理区域；一温度侦测部分，其经组态用以侦测该处理区域之一温度；以及一控制部分，其经组态用以藉由一PID控制器控制该加热单元。该控制部分包括：一规则表，其系制备成当该处理区域之一温度增加至一目标值时，预测一温度特性项目之变化数量，以及PID常数之改变比率相应地彼此相关；一执行单元，其经组态用以重复执行：根据该温度侦测部分之一温度侦测值获得一温度轮廓并且根据该温度轮廓计算一实际测量值与该温度特性项目之一目标值间一差异的一步骤；以及当该差异系超过一容许范围且大于一规定值时，参考该规则表并改变该等PID常数，以藉由对应于该温度特性项目之一预测变化数量相对于该差异的一变化比率重设新PID常数之一步骤；直至该差异可属于该容许范围。该控制部分亦包括一更新单元，其经组态用以在该温度特性项目参考该规则表之一实际测量变化数量与在先前循环中已预测之该温度特性项目的一预测变化数量间存在一差异时，根据该实际测量变化数量更新该等PID常数与该规则表内所述该温度特性项目之该等预测变化数量间的对应关系。 |
