| 摘要 |
该静态去挥发作用装置(1)具有处理一含有聚合物的液体(7)之作用，而用于聚合物去挥发作用之目的。于此制程中，挥发成份系由该等聚合物分开，其中处于压力下之液体系于一容器(10)中扩展。一用于该已去挥发化聚合物之排放泵(3)系位在一收集槽区域之基底。一用于由该等挥发成份所形成的气体(8)之抽取管线(4)及至少一相分离室(2)系配置于该容器之上方区域(11,12)中。此相分离室包含一用于待处理液体之入口(20)、一聚合物排放区域之下开口(210)、及一气体排放区域之单一上开口或复数上开口(220)。 |
