| 摘要 |
Vorgeschlagen wird ein neues Verfahren zur keramischen Beschichtung eines Substrates, wobei das Verfahren mindestens die folgenden Schritte aufweist: i.) Bereitstellen einer alkoholischen und/oder wässrigen Lösung A eines Metallalkoholates und/oder eines Metallesters und/oder eines Metallsalzes, wobei es sich um Metallalkoholate und/oder Metallester und/oder Metallsalze der Metalle handelt, ausgesucht aus der Liste, umfassend: Al, Ga, Ge, Sn, Ti, Zr, V, Nb, Ta, Mo, W und Zn; ii.) Zugabe eines Ko; iii.) Zugabe eines Metalloxids in Pulverform, wobei die Metalloxide solche Oxide sind von Metallen, ausgesucht aus der Liste, umfassend: Al, Ga, Ge, Sn, Ti, Zr, V, Nb, Ta, Mo, W und Zn; iv.) Zugabe eines Filmbildners zur Lösung A; v.) Behandlung der Lösung mit Ultraschall zur Erzeugung eines Schlickers aus der Lösung A; vi.) Aufrühren des derart erzeugten Schlickers; vii.) Eintauchen eines Substrates in den Schlicker zum Aufbau einer Substratbeschichtung mit einer Dicke von mindestens 1μm; viii.) Halten des zu beschichtenden Substrates im Schlicker; ix.) Ziehen des Substrates mit vorgegebener Ziehgeschwindigkeit; x.) Trocknen des beschichteten Substrates bei Raumtemperatur; xi.) Wärmebehandlung des beschichteten Substrates in einem vorgewärmten Ofen bei einer Temperatur von maximal 600°C. |
