发明名称 一种用于半导体外延系统的基座
摘要 本发明公开了一种用于半导体外延系统的基座,机械传动方式实现基座的公转、气动旋转方式实现衬底的自转,并结合机械手实现基座整体的升降。本发明包含有大盘、小盘,大盘内部设有辐射状的内部气路通道,大盘的内部气路通道连通小盘,支撑杆内的内部气道连通大盘内部辐射状的内部气路通道,支撑杆中部设有金属法兰,金属法兰的中心设有磁流体组件,撑杆延伸出金属法兰的部分固定有一从动轮,从动轮一侧等高的位置设有主动轮,靠近支撑杆尾端的位置设有轴承组件,支撑杆的尾端设有进气组件,进气组件由轴承组件、B套管和气体入口组成。本发明的设计可以节约反应的原料、提高薄膜的均匀性;基座结构简单、可靠。
申请公布号 CN102347258B 申请公布日期 2013.01.09
申请号 CN201110276973.4 申请日期 2011.09.19
申请人 东莞市中镓半导体科技有限公司 发明人 李燮;陆羽;刘鹏;袁志鹏;赵红军;张俊业;张国义;孙永健
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;C30B25/12(2006.01)I;C30B23/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 谭一兵
主权项 一种用于半导体外延系统的基座,具有双重旋转和升降功能的基座,包含有:大盘(2)、小盘(1),其特征在于:所述大盘(2)内部设有辐射状的内部气路通道(23),所述大盘(2)上设有3个以上小盘(1),所述小盘(1)的下部设有扇叶(21),所述大盘(2)的内部气路通道(23)连通小盘(1),所述大盘(2)中心连接支撑杆(4),所述支撑杆(4)内设有内部气道(41),所述支撑杆(4)的内部气道(41)连通大盘(2)的内部气路通道(23),所述支撑杆(4)中部设有金属法兰(5),所述金属法兰(5)的中心设有磁流体组件(24),所述磁流体组件(24)包含磁流体轴承(18)和磁流体磁铁(19),所述磁流体组件(24)内部设有A套管(12),所述A套管(12)的内部设有中空的支撑杆(4),所述支撑杆(4)上位于金属法兰(5)之下设有一从动轮(10),所述从动轮(10)一侧等高的位置设有主动轮(9),所述主动轮(9)安装在伺服电机(8)的顶端,所述支撑杆(4)的尾端设有进气组件,所述进气组件由轴承组件(15)、B套管(17)和气体入口(16)组成,所述轴承组件(15)包括轴承和轴承固定件(13),所述轴承固定件(13)与支撑杆(4)固定在一起,所述轴承的外部设有机械手支架(11),所述进气组件连接机械手支架(11)。
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