发明名称 用于将气体径向输送至腔室的装置及其使用方法
摘要 本文提供了将气体输送至腔室的装置及其使用方法。在某些实施例中,用于工艺腔室的气体分配系统可包括:主体,该主体具有第一表面,该第一表面被配置为将主体耦合至工艺腔室的内表面,该主体具有被布置穿过主体的开口;凸缘,该凸缘被布置成邻近开口的第一端,该开口的第一端与主体的第一表面相对,凸缘向内延伸至开口中,并且凸缘被配置为支撑在凸缘上的窗口;以及多个气体分配槽道,多个气体分配槽道布置在主体内,并且多个气体分配槽道将布置在主体内和围绕开口的槽道流体地耦合至布置在凸缘中的多个孔,其中多个孔绕凸缘径向地布置。
申请公布号 CN102870200A 申请公布日期 2013.01.09
申请号 CN201180007653.7 申请日期 2011.04.20
申请人 应用材料公司 发明人 杰瑞德·阿哈默德·里;马丁·杰夫·萨里纳斯;安珂斯·阿加沃尔;伊兹拉·罗伯特·高德;詹姆斯·P·克鲁斯;阿尼鲁达·帕尔;安德鲁·源
分类号 H01L21/3065(2006.01)I 主分类号 H01L21/3065(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 王安武
主权项 一种用于工艺腔室的气体分配系统,所述气体分配系统包括:主体,所述主体具有第一表面,所述第一表面被配置为将所述主体耦合至工艺腔室的内表面,所述主体具有被布置成穿过所述主体的开口;凸缘,所述凸缘被布置成邻近所述开口的第一端,所述开口的所述第一端与所述主体的所述第一表面相对,所述凸缘向内延伸至所述开口中,并且所述凸缘被配置为支撑所述凸缘上的窗口;以及多个气体分配槽道,所述多个气体分配槽道布置在所述主体内,并且所述多个气体分配槽道将布置在所述主体内以及围绕所述开口的槽道流体地耦合至布置在所述凸缘中的多个孔,其中所述多个孔绕所述凸缘径向地布置。
地址 美国加利福尼亚州