| 摘要 |
<p>마스크(M)에 형성되어 있는 패턴을 띠형상 워크(W)에 투영하여, 노광하는 띠형상 워크의 노광 장치에서, 마스크(M)의 얼라인먼트 마크(MAM)의 내측에 투영 렌즈용 포커스 조정 패턴(FP)을 형성한다. 또, 워크 스테이지(10)의 관통구멍 또는 노치(10a) 상에 광투과 부재(10b)를 배치하고, 얼라인먼트 현미경용 포커스 조정 패턴(AP)을 형성한다. 마스크와 띠형상 워크의 얼라인먼트 마크를, 얼라인먼트 현미경(12)으로 검출하여, 마스크(M)와 띠형상 워크(W)의 위치 맞춤을 행하고, 다음에, 얼라인먼트 현미경(12)에 의해, 투영 렌즈용 포커스 조정 패턴(FP)과 상기 얼라인먼트 현미경용 포커스 조정 패턴(AP)을 검출하여 포커스 조정을 행한다.</p> |
