| 发明名称 | 处理基板的设备和方法 | ||
| 摘要 | 提供了处理基板的设备和方法，更具体地涉及使用超临界流体处理基板的设备和方法。该处理基板的设备包括：处理室，在所述处理室中，余留在基板上的有机溶剂使用被提供为超临界流体的流体溶解以干燥所述基板；和再生单元，有机溶剂在所述再生单元中与从处理室排出的流体分离以再生所述流体。 | ||
| 申请公布号 | CN102856234A | 申请公布日期 | 2013.01.02 |
| 申请号 | CN201210227992.2 | 申请日期 | 2012.07.02 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 郑恩先;金禹永;许瓒宁;朴正善 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种处理基板的设备，所述设备包括：处理室，在所述处理室中使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥所述基板；和再生单元，在所述再生单元中所述有机溶剂与从所述处理室排出的流体分离以再生所述流体。 | ||
| 地址 | 韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑毛枾里278 | ||