| 发明名称 | 一种提高对位标记清晰度的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种提高对位标记清晰度的方法，所述方法包括：在晶圆表面刻蚀对位标记；在所述晶圆上进行外延层的生长；去除对位标记上方生长的外延层，使得晶圆表面的对位标记露出。该方法通过在外延层生长之后增加一次光刻和刻蚀，将底层有对位标记的外延部分被刻蚀掉，使底层的标记显露出来，为后续的光刻步骤提供清晰可见的对位标记，消除了对位失败的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN102856164A | 申请公布日期 | 2013.01.02 |
| 申请号 | CN201210329883.1 | 申请日期 | 2012.09.07 |
| 申请人 | 无锡华润上华科技有限公司 | 发明人 | 胡骏 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 马晓亚 |
| 主权项 | 一种提高对位标记清晰度的方法，包括：在晶圆表面刻蚀对位标记；在所述晶圆上进行外延层的生长；去除覆盖对位标记部分的外延层，使得晶圆表面的对位标记露出。 | ||
| 地址 | 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 | ||