氧化稳定的化学机械抛光组合物及方法

摘要

本发明提供一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含氨基化合物、形成自由基的氧化剂、能抑制该氨基化合物的自由基诱导氧化的自由基捕集剂、及为此的含水载体。该自由基捕集剂为经羟基取代的多元不饱和环状化合物、含氮化合物、或其组合。任选地，该组合物包含金属氧化物研磨剂(例如，二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、二氧化铈、氧化锆、或前述研磨剂中的两种或多种的组合)。本发明进一步提供一种用CMP组合物化学机械抛光基板的方法，以及一种提高含有胺及形成自由基的氧化剂的CMP组合物的保存期的方法，其中将自由基捕集剂加至该CMP组合物中。

主权项

一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含：(a)氨基化合物，其中该氨基化合物为经季铵取代的聚合物；(b)形成自由基的氧化剂；(c)自由基捕集剂，其能抑制该氨基化合物的自由基诱导的氧化，该自由基捕集剂包括经羟基取代的多元不饱和环状化合物、含氮化合物、或其组合，其中所述自由基捕集剂以0.00001摩尔至0.1摩尔的量存在于所述化学机械抛光组合物中；及(d)为此的含水载体，其中该含氮化合物选自：芳族硝基化合物、杂芳族硝基化合物、脂族硝基化合物、亚硝基化合物、氮自由基型化合物、N‑氧化物化合物、N‑羟基‑亚胺化合物、经酰氨基取代的芳族化合物、N‑酰基‑烯胺化合物、及前述含氮化合物中的两种或更多种的组合，该经羟基取代的多元不饱和环状化合物选自：氢醌型化合物、经羟基取代的醌化合物、经羟基取代的香豆素化合物、经羟基取代的萘化合物、经烷氧基取代的酚化合物、经烷基取代的酚化合物、2‑羟基吡啶、经磺酸取代的酚类化合物、其盐、及前述化合物中的两种或更多种的组合。