发明名称 |
在衬底上形成含金属层的气相沉积方法 |
摘要 |
本发明所述的原子层沉积方法可有利地用于在衬底上形成含金属层。例如,本发明所述的某些方法可形成具有低碳含量(例如低碳酸锶含量)的钛酸锶层,其可形成具有高介电常数的层。 |
申请公布号 |
CN101595244B |
申请公布日期 |
2012.12.26 |
申请号 |
CN200880003141.1 |
申请日期 |
2008.01.25 |
申请人 |
美光科技公司 |
发明人 |
巴斯卡尔·斯里尼瓦桑;约翰·斯迈思 |
分类号 |
C23C16/40(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;H01L21/316(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/40(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
王允方 |
主权项 |
一种在衬底上形成含金属层的方法,所述方法包含:提供包含至少一种钛前体化合物的蒸气;提供包含至少一种金属有机锶前体化合物的蒸气;和使所述包含所述至少一种钛前体化合物的蒸气和所述包含所述至少一种金属有机锶前体化合物的蒸气与衬底接触,以利用包含多个原子层沉积循环的原子层沉积方法在所述衬底的至少一个表面上形成SrTiO3层,其中所述多个原子层沉积循环包含多组交替进行的2至4个连续氧化锶沉积循环与7至14个连续氧化钛沉积循环,导致所述SrTiO3层具有0.9∶1.0至1.0∶0.9的Sr∶Ti原子比。 |
地址 |
美国爱达荷州 |