| 发明名称 | 研磨盘、研磨垫整理器及研磨装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种研磨盘、研磨垫整理器及研磨装置，该研磨盘包括包括内圈和外圈，所述外圈设置于所述内圈的外周，所述内圈和外圈之间具有间隙，所述内圈和外圈的工作表面位于同一水平面上，所述内圈的工作表面上均匀分布若干由内向外逐渐变大的内圈沟槽，所述外圈的工作表面上均匀分布若干由内向外逐渐变大的外圈沟槽。本实用新型可以利用内圈和外圈之间的间隙快速排放位于内圈上的研磨液副产物，从而实现研磨液副产物的有效、快速排除。 | ||
| 申请公布号 | CN202622547U | 申请公布日期 | 2012.12.26 |
| 申请号 | CN201220175579.1 | 申请日期 | 2012.04.23 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 唐强 |
| 分类号 | B24B37/16(2012.01)I;B24B53/017(2012.01)I;B24B37/04(2012.01)I | 主分类号 | B24B37/16(2012.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种研磨盘，其特征在于，包括内圈和外圈，所述外圈设置于所述内圈的外周，所述内圈和外圈之间具有间隙，所述内圈和外圈的工作表面位于同一水平面上，所述内圈的工作表面上均匀分布若干由内向外逐渐变大的内圈沟槽，所述外圈的工作表面上均匀分布若干由内向外逐渐变大的外圈沟槽。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||