发明名称 | 测试MOS器件温度特性的结构及方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种测试MOS器件温度特性的结构及方法,所述结构包括:一个自带加热结构的待测试MOS器件和一个PN结,所述加热结构为围绕在MOS器件和PN结周围,且在一侧有开口的框型电阻结构。通过利用加热结构快速升温的特点,对MOS器件的局部进行加热,使得升温效果显著加快;只在进行一次温度校准后,通过改变施加在加热结构两端的电流或者电压,使得MOS器件的温度特性的测试一次性就能够完成,提高了温度特性测试的效率。 | ||
申请公布号 | CN102841300A | 申请公布日期 | 2012.12.26 |
申请号 | CN201210342022.7 | 申请日期 | 2012.09.14 |
申请人 | 北京大学 | 发明人 | 何燕冬;张钢刚;刘晓彦;张兴 |
分类号 | G01R31/26(2006.01)I | 主分类号 | G01R31/26(2006.01)I |
代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
主权项 | 一种测试MOS器件温度特性的结构,其特征在于,所述结构包括:加热结构、待测试的MOS器件和PN结,所述加热结构为一侧有开口的框型电阻结构,所述MOS器件和所述PN结位于所述加热结构内部。 | ||
地址 | 100871 北京市海淀区颐和园路5号 |