| 摘要 |
<p>액처리 장치는, 피처리체(W)를 유지하며 중공(中空) 형상으로 된 유지 플레이트(1)와, 유지 플레이트(1)에 고정 연결되며 중공 형상으로 된 회전축(2)과, 회전축(2)을 회전 구동하는 회전 구동부(40)와, 유지 플레이트(1)의 중공 내에 배치되며, 본체(25)와 피처리체(W)를 지지하는 리프트핀(21)을 갖는 리프트핀 플레이트(20)를 포함하고 있다. 회전축(2)의 중공 내에는, 세정액을 공급하는 세정액 공급부(11)와 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부(10)가 연장되어 있다. 리프트핀 플레이트(20)는 경사면(25a, 25b)을 가지며, 불활성 가스 공급부(10)의 선단이 세정액 공급부(11)의 선단보다도 높은 위치에 위치하고 있다.</p> |
