发明名称 电浆蚀刻机台与其顶出销
摘要 一种电浆蚀刻机台的顶出销,包含有一绝缘外壳与一导电中心销安装于绝缘外壳之中。导电中心销在顶起基板时,可直接接触基板,以移除基板上的残留静电。绝缘外壳则形成抗腐蚀且高阻抗的保护层。导电中心销可进一步形成一安全槽,以避免造成下电极的损伤,亦可以形成一扳手固定槽,以方便固定顶出销。一种电浆蚀刻机台亦同时在此揭露。
申请公布号 TWI380365 申请公布日期 2012.12.21
申请号 TW098132594 申请日期 2009.09.25
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 吴仲尧;陈信全;徐弘迪;陈璟桦;吴志坚;杨总胜;杨中维;江舜彦;宋嘉恩;杨胜淼;曾景义
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种顶出销,用于一电浆蚀刻机台,以顶起一基板,该顶出销包含:一绝缘外壳;以及一导电中心销,安装于该绝缘外壳之中,并在顶起该基板时,接触该基板,以移除该基板上的残留静电。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该导电中心销系为一金属中心销。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该导电中心销的材料系选自于金、银、铜、铁、铝合金与不锈钢所构成之群组。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该绝缘外壳系由一耐高温或抗腐蚀工程塑胶所形成。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该绝缘外壳的材料系选自于聚苯并咪唑(Polybenzimidazoles;PBI)、聚醚醚酮(Polyether Ether Ketone;PEEK)、陶瓷、石英与聚醯亚胺(Polyimide)所构成的群组。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该导电中心销具有一安全槽。如申请专利范围第6项所述之顶出销,其中该安全槽距离该导电中心销的一顶端约92公厘(mm)。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该绝缘外壳具有一扳手固定槽,形成于该绝缘外壳的一上方部位,用以固定该顶出销。如申请专利范围第8项所述之顶出销,其中该扳手固定槽,与该绝缘外壳的一顶端距离约12公厘(mm)。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该绝缘外壳的一顶端,具有一倒角(Fillet)。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该绝缘外壳的一顶端,具有一斜面倒角(Chamfer)。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该顶出销的长度约为161.5公厘(mm)。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该导电中心销具有一底部接地端,以电性连接该电浆蚀刻机台的一接地线路。如申请专利范围第1项所述之顶出销,其中该顶出销系一玻璃基板顶出销。一种顶出销,包含:一绝缘外壳;以及一导电中心销,安装于该绝缘外壳之中。一种电浆蚀刻机台,包含:一上电极;一下电极,具有复数个第一开口与复数个第二开口;一升降装置,安装于该下电极的下方;以及复数个如申请专利范围第1至15项任一项所述之顶出销,其中该些顶出销安装于该升降装置之上,且穿过该些第二开口,当该基板进行蚀刻时,该升降装置驱动该些顶出销降下,使该基板平置于该下电极之上,并覆盖该些第二开口,当该些顶出销顶起该基板时,该导电中心销接触该基板,以移除该基板上的残留静电。如申请专利范围第16项所述之电浆蚀刻机台,其中该些第一开口系为冷却气体的入口,以降低该基板的温度。如申请专利范围第17项所述之电浆蚀刻机台,其中该冷却气体包含惰性气体。如申请专利范围第17项所述之电浆蚀刻机台,其中该冷却气体包含氦气(Helium;He)。如申请专利范围第17项所述之电浆蚀刻机台,其中该下电极于电浆蚀刻时,更通入一预定电压,以产生静电吸附该基板。如申请专利范围第16项所述之电浆蚀刻机台,其中该上电极系为一阳极,且该下电极为一阴极。一种电浆蚀刻机台,包含:一上电极;一下电极,具有复数个开口;一升降装置,安装于该下电极的下方;以及复数个如申请专利范围第1至15项任一项所述之顶出销,其中该些顶出销设置于该升降装置之上,且分别对应穿过该些开口。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号