发明名称 Manufacture method of CNT-Metal homogeneous film for electron field emission & Aerosol deposition device
摘要 <p>본 발명은 CNT(탄소나노튜브)와 금속의 혼합분말을 진공팽창원리로 가속시킨 후(에어로졸 증착법: 이하 AD법) 기재에 충돌시키는 방법을 통하여 전계방출용 (Electron Field Emission) CNT-금속 혼합막을 균일하게 형성시키는 방법 및 이러한 방법 실시를 위한 에어로졸 증착장치에 관한 것이다. 본 발명은 가스유입부가 구비되어 있으며, 내부 바닥면에는 전원에 의해 회전시킬 수 있는 자석회전자가 구비된 에어로졸 챔버; 내부에 기재가 배치된 저진공상태의 증착챔버; 및 일단은 상기 에어로졸 챔버와 연통되고 타단은 상기 증착챔버 내에 삽입되어 상기 기재를 향해 개구되어 있는 수송관; 을 포함하여 구성된 에어로졸 증착장치에 의해 (a) CNT-금속 혼합분말에 기계적 충돌에너지를 가하는 전처리 단계; (b) 전처리된 CNT-금속 혼합분말을 상기 에어로졸 챔버에 도입하고, 상기 CNT-금속 혼합분말에 수송가스를 직접 분사하여 에어로졸화시키되, 상기 에어로졸 챔버 바닥에 CNT-금속 혼합분말이 적층되지 않도록 상기 자석회전자를 회전시키는 작업이 함께 시행되는 단계; 및 (c) 상기 에어로졸을 진공팽창원리로 가속하여 상기 수송관을 통해 상기 증착챔버 내부로 토출시킴으로써, 상기 기재에 증착시키는 단계; 로 시행되는 전계방출용 CNT-금속 혼합막 제조 방법을 제공한다.</p>
申请公布号 KR101214050(B1) 申请公布日期 2012.12.20
申请号 KR20120092964 申请日期 2012.08.24
申请人 发明人
分类号 B05D1/02;C23C24/04 主分类号 B05D1/02
代理机构 代理人
主权项
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