发明名称 化学气相沉积维修设备
摘要 本发明公开了一种化学气相沉积维修设备,属于机械领域,为解决现有技术中,气体喷射装置与基板之间的距离过近而造成的基板划伤的问题而设计。一种化学气相沉积维修设备,包括:气体喷射装置,其包括:气体窗口,与储气模块层叠设置,用于透过气孔喷出金属化合物;储气模块,用于向基板喷出辅助气体,其中,其出气口位于气体喷射装置下表面;通光孔,贯通设置在气体喷射装置中,用于透过激光;气孔,设置在透镜下方的通光孔的内壁上;透镜,设置在通光孔内,靠近通光孔底部;压敏传感器,设置在气体喷射装置的下表面,用于确定基板与所述气体喷射装置之间的距离;控制器,所述控制器与所述压敏传感器连接,用于控制所述储气模块的辅助气体喷出量。
申请公布号 CN102828166A 申请公布日期 2012.12.19
申请号 CN201210307094.8 申请日期 2012.08.24
申请人 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 发明人 汪雯;刘国全;李建敏;郑杰;滕飞
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/48(2006.01)I;C23C16/16(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种化学气相沉积维修设备,包括:气体喷射装置,其特征在于,所述气体喷射装置包括:气体窗口,与储气模块层叠设置,用于形成并透过气孔喷出金属化合物;所述储气模块,连通辅助气体供应管路,用于向基板喷出辅助气体,其中,所述储气模块的出气口位于所述气体喷射装置的下表面;通光孔,贯通设置在所述气体喷射装置中,用于透过激光;所述气孔,设置在透镜下方的所述通光孔的内壁上,用于通过所述气体窗口喷出的所述金属化合物;所述透镜,设置在所述通光孔内,靠近所述通光孔底部,用于对所述激光进行聚焦,分解所述金属化合物形成金属沉积物,并沉积于所述基板上;压敏传感器,设置在所述气体喷射装置的下表面,用于通过检测所述辅助气体碰撞所述基板后反弹回所述气体喷射装置的下表面的气体压力,确定所述基板与所述气体喷射装置之间的距离;控制器,所述控制器与所述压敏传感器连接,用于当所述压敏传感器检测的所述距离小于所设置的预设值时,则增大所述储气模块的辅助气体喷出量。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号