| 发明名称 | 掩膜板、采用掩膜板制作阵列基板的方法、阵列基板 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种掩膜板、采用掩膜板制作阵列基板的方法、阵列基板，属于液晶显示领域。其中，该掩膜板应用于拼接曝光制作阵列基板，所述掩膜板包括相互平行的2n+1个掩膜图形，每个掩膜图形包括有对应阵列基板的数据信号线的遮光图案，其中，相邻掩膜图形之间的所述遮光图案为断续的，位于掩膜板中间的掩膜图形两侧的所述遮光图案为非对称的。本发明的技术方案能实现数据信号线在阵列基板中间断开，从而把一块完整的显示屏从驱动上分成相独立的上半部分和下半部分，实现在像素充电时间一定的条件下，提高液晶显示面板的图像扫描帧速，或者在液晶显示面板的图像扫描帧速一定的条件下，增大像素充电时间。 | ||
| 申请公布号 | CN102819183A | 申请公布日期 | 2012.12.12 |
| 申请号 | CN201210306678.3 | 申请日期 | 2012.08.24 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 廖燕平;吕敬;邵喜斌;尹大根;王英;张振宇 |
| 分类号 | G03F1/60(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/60(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;赵爱军 |
| 主权项 | 一种掩膜板，应用于拼接曝光制作阵列基板，其特征在于，所述掩膜板包括依次排布、相互平行的2n+1个掩膜图形，n为任一自然数，每个掩膜图形包括有对应阵列基板的数据信号线的遮光图案，其中，相邻掩膜图形之间的所述遮光图案为断续的，位于掩膜板中间的掩膜图形两侧的所述遮光图案为非对称的。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||