发明名称 VACUUM HEAT TREATMENT APPARATUS
摘要 <p>실시예에 따른 진공 열처리 장치는, 챔버; 상기 챔버 내에 위치하는 단열 부재; 상기 단열 부재 내에 위치한 반응 용기; 및 상기 반응 용기와 상기 단열 부재 사이에 위치하는 가열 부재를 포함한다. 상기 단열 부재는, 제1 단열 부재, 그리고 상기 제1 단열 부재 내부에서 상기 제1 단열 부재와 이격되는 제2 단열 부재를 포함한다.</p>
申请公布号 KR101210064(B1) 申请公布日期 2012.12.07
申请号 KR20100085428 申请日期 2010.09.01
申请人 发明人
分类号 C21D1/74;C21D1/76;C21D1/773 主分类号 C21D1/74
代理机构 代理人
主权项
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