发明名称 Ionenätzvorrichtung
摘要 Beschrieben wird eine Abschirmung (8, 10), die zwischen einer Ionenquelle (1) einer Ionenätzvorrichtung und einer Probe (7) so angeordnet ist, dass sie mit der Probe in Kontakt ist. Die Abschirmung ist dadurch gekennzeichnet, dass sie eine runde Form mit einer Öffnung in der Mitte aufweist und sich um eine Achse (11) drehen kann, die durch die Öffnung verläuft. Weiter ist auf der zur Ionenquelle weisenden Oberfläche eines Endabschnitts der Abschirmung eine Rille vorgesehen, und in einem Endabschnitt der Abschirmung ist eine geneigte Fläche vorgesehen. Daher wird eine Ionenätzvorrichtung mit einer Abschirmung erhalten, bei der die maximale Anzahl von Bearbeitungsvorgängen erhöht und die Position der Abschirmung genau reguliert werden können.
申请公布号 DE112010003115(T5) 申请公布日期 2012.12.06
申请号 DE201011003115T 申请日期 2010.07.14
申请人 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 发明人 MUTO, HIROBUMI;KAMINO, ATSUSHI;KANEKO, ASAKO
分类号 H01J37/09;G01N1/28;G01N1/32;H01J37/20;H01J37/305;H01J37/31 主分类号 H01J37/09
代理机构 代理人
主权项
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