发明名称 用于制备高折射率材料的硫改性硅烷
摘要 一种具有由聚硫醇和烯基硅烷反应形成的聚硫化物聚硅烷的组合物。在由UV辐射或热,优选通过UV辐射驱动的硫醇-烯加成法中使反应物结合。然后水解聚硫化物聚硅烷并且可与其它水解化合物结合。对于涂层,水解聚硫化物聚硅烷并且可任选与纳米颗粒结合。对于散装材料,水解聚硫化物聚硅烷,浓缩并且加热形成可用于形成镜片的高折射率材料。
申请公布号 CN102015837B 申请公布日期 2012.12.05
申请号 CN200980114332.X 申请日期 2009.05.12
申请人 埃西勒国际通用光学公司 发明人 J·彼特奥;H·摩瑟
分类号 C08G75/04(2006.01)I;C08L81/02(2006.01)I 主分类号 C08G75/04(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 陈季壮
主权项 一种用于合成聚硫化物聚硅烷(III)的方法,包括以下步骤:(i)将以下物质混合获得溶液:1)由以下通式表示的聚硫醇(I)(HS)‑R‑(SH)n    (I)其中‑n为1‑5的整数,其中包括1和5;和‑R选自以下基团:亚芳基、亚杂芳基、和直链或支链C2‑C30亚烷基,其中1‑10个碳原子可被选自CO、SO2、NR4、O、S和P的基团替代,其中R4表示氢原子或直链或支链C1‑C6烷基;和/或该亚烷基各自可任选被选自羟基、羧基、芳基和杂芳基的基团取代;和2)由以下通式表示的烯基硅烷(II)(R1)mX(3‑m)Si‑R2‑R3    (II)其中:‑R1为直链或支链C1‑C10烷基基团,其任选包含1‑5个选自NR6、O、S或P的杂原子,其中R6表示氢原子或直链或支链C1‑C6烷基;和/或该烷基基团各自可任选被选自羟基、羧基和C1‑C6烷氧基的基团取代;‑X为选自卤素原子和‑OR5的基团,其中R5表示选自C3‑C10环烷基、C3‑C10杂环烷基、以及直链或支链C1‑C6烷基的基团,其可包含1‑3个选自NR7、O或S的杂原子,其中R7表示氢原子或直链或支链C1‑C6烷基;和/或该烷基各自可被选自直链或支链C1‑C6烷氧基、羧基和羟基的基团取代;‑m为0‑2的整数,其中包括0和2;‑R2为不存在或由选自直链或支链C2‑C10亚烷基的基团表示,其中1‑4个碳原子可被选自CO、NR8、O或S的基团替代,其中R8表示氢原 子或直链或支链C1‑C6烷基;和/或该亚烷基各自可任选被选自直链或者支链C1‑C6烷氧基、羧基和羟基的基团取代;‑R3表示选自直链或支链C2‑C10烯基、C4‑C10环烯基和C4‑C10杂环烯基的基团,这些基团各自可任选被选自直链或支链C1‑C6烷基、直链或支链C1‑C6烷氧基、直链或支链C1‑C6硫代烷氧基、羧基、硫醇和羟基的基团取代;和(ii)将溶液暴露于UV辐射或热进行硫醇‑烯加成,从而生产聚硫化物聚硅烷(III)。
地址 法国沙朗通勒蓬
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