发明名称 可控制停滞时间之缓冲控制电路
摘要 缓冲控制电路包含一上升停滞时间锁定电路和一下停滞时间锁定电路,可依据一控制讯号输出一第一开关讯号和一第二开关讯号。上升停滞时间锁定电路使用开关和逻辑元件来控制第二开关讯号之波形上升边缘和下降边缘,而下降停滞时间锁定电路使用开关和逻辑元件来控制第一开关讯号之波形上升边缘和下降边缘。因此,缓冲控制电路可在两开关讯号之间提供停滞时间。
申请公布号 TWI378642 申请公布日期 2012.12.01
申请号 TW098106943 申请日期 2009.03.04
申请人 台湾类比科技股份有限公司 发明人 庄咏竣
分类号 H03K17/28 主分类号 H03K17/28
代理机构 代理人 戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3;吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3
主权项 一种可控制停滞时间(dead-time)之缓冲控制电路,其包含:一输入端,用来接收一控制讯号;一第一输出端,用来输出一第一开关讯号;一第二输出端,用来输出一第二开关讯号;一上升停滞时间锁定电路,包含:一第一逻辑元件,用来依据该控制讯号提供一第一脉冲讯号;一第一开关,用来依据一第二脉冲讯号控制该第二开关讯号之波形上升边缘(rising edge);一第二开关,用来依据该控制讯号控制该第二开关讯号之波形下降边缘(falling edge);以及一下降停滞时间锁定电路,包含:一第二逻辑元件,用来依据该控制讯号提供该第二脉冲讯号;一第三开关,用来依据该第一脉冲讯号控制该第一开关讯号之波形下降边缘;以及一第四开关,用来依据该控制讯号控制该第一开关讯号之波形上升边缘。如请求项1所述之缓冲控制电路,其中:该第一开关包含:一第一端;一第二端;以及一控制端;且该第二开关包含:一第一端,耦接于一第一电位;一第二端,耦接于该第一开关之第一端;以及一控制端,耦接于该缓冲控制电路之输入端。如请求项2所述之缓冲控制电路,其中该上升停滞时间锁定电路另包含:一第五开关,包含:一第一端,耦接于一第二电位;一第二端,耦接于该第一开关之控制端;以及一控制端,耦接于该第二逻辑元件以接收该第二脉冲讯号。如请求项3所述之缓冲控制电路,其中该第一和第二电位具相同电位。如请求项1所述之缓冲控制电路,其中该上升停滞时间锁定电路另包含:一第六开关,包含:一第一端,耦接于该第一开关之控制端;一第二端,耦接于一第三电位;以及一控制端,耦接于该第一开关之第二端。如请求项5所述之缓冲控制电路,其中该第三电位低于该第一电位。如请求项5所述之缓冲控制电路,其中该上升停滞时间锁定电路另包含:一第一反向器,耦接于该缓冲控制电路之输入端和该第一开关之第二端之间。如请求项2所述之缓冲控制电路,其中该上升停滞时间锁定电路另包含:一第二反向器,耦接于该缓冲控制电路之第二输出端和该第二开关之第二端之间。如请求项2所述之缓冲控制电路,其中该第一逻辑元件包含:一第一输入端,耦接于该第一开关之第二端;一第二输入端,耦接于该缓冲控制电路之输入端;以及一输出端,用来输出该第一脉冲讯号。如请求项9所述之缓冲控制电路,其中该第一逻辑元件包含一反或闸(NOR gate)。如请求项1所述之缓冲控制电路,其中:该第三开关包含:一第一端;一第二端;以及一控制端;且该第四开关包含:一第一端,耦接于该第三开关之第二端;一第二端,耦接于一第四电位;以及一控制端,耦接于该缓冲控制电路之输入端。如请求项11所述之缓冲控制电路,其中该下降停滞时间锁定电路另包含:一第七开关,包含:一第一端,耦接于该第三开关之控制端;一第二端,耦接于一第五电位;以及一控制端,耦接于该第一逻辑元件以接收该第一脉冲讯号。如请求项12所述之缓冲控制电路,其中该第四和第五电位具相同电位。如请求项11所述之缓冲控制电路,其中该下降停滞时间锁定电路另包含:一第八开关,包含:一第一端,耦接于一第六电位;一第二端,耦接于该第三开关之控制端;以及一控制端,耦接于该第三开关之第一端。如请求项14所述之缓冲控制电路,其中该第六电位高于该第四电位。如请求项14所述之缓冲控制电路,其中该下降停滞时间锁定电路另包含:一第三反向器,耦接于该缓冲控制电路之输入端和该第三开关之第一端之间。如请求项11所述之缓冲控制电路,其中该下降停滞时间锁定电路另包含:一第四反向器,耦接于该缓冲控制电路之第一输出端和该第四开关之第一端之间。如请求项11所述之缓冲控制电路,其中该第二逻辑元件包含:一第一输入端,耦接于该第三开关之第一端;一第二输入端,耦接于该缓冲控制电路之输入端;以及一输出端,用来输出该第二脉冲讯号。如请求项18所述之缓冲控制电路,其中该第二逻辑元件包含一反及闸(NAND gate)。如请求项1所述之缓冲控制电路,其中该第一和第四开关包含N型金属氧化物半导体场效电晶体(n-type metal oxide semiconductor field effect transistor,N-MOSFET),且该第二和第三开关包含P型金属氧化物半导体场效电晶体(p-type metal oxide semiconductor field effect transistor,P-MOSFET)。
地址 新竹市科学园区工业东二路17号2楼
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