发明名称 |
薄膜用组合物以及用其制作的接着薄膜与覆盖薄膜 |
摘要 |
本发明的目的在于提供一种可达成在高频区域的低介电常数化及低介电损失化,并且难燃性优良的电气/电子用途的接着薄膜与覆盖薄膜,以及在这些薄膜的制作中使用的薄膜用组合物。本发明提供下述薄膜用组合物,其特征是,含有:(A)不含羟基的环氧树脂、(B)含有含磷多元醇作为构成成分的聚氨酯树脂、(C)具有马来酰亚胺基的化合物、以及(D)硬化剂,且相对于前述(A)分100质量份,含有100-975质量份的前述(B)成分、含有25~100质量份的前述(C)成分、含有有效量的前述(D)成分,磷相对于前述(A)~(D)的合计的质量百分率为2~7%。 |
申请公布号 |
CN102803384A |
申请公布日期 |
2012.11.28 |
申请号 |
CN201180012539.3 |
申请日期 |
2011.02.10 |
申请人 |
纳美仕有限公司 |
发明人 |
寺木慎;吉田真树;高桥聪子 |
分类号 |
C08L75/04(2006.01)I;C08K5/3415(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)I;H05K3/28(2006.01)I |
主分类号 |
C08L75/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 |
代理人 |
程凤儒 |
主权项 |
一种薄膜用组合物,其特征为,含有:(A)不含羟基的环氧树脂、(B)含有含磷多元醇作为构成成分的聚氨基甲酸酯树脂、(C)具有马来酰亚胺基的化合物、以及(D)硬化剂,且相对于前述(A)成分100质量份,含有100~975质量份的前述(B)成分、含有25~100质量份的前述(C)成分、含有有效量的前述(D)成分,磷相对于前述(A)~(D)的合计的质量百分率为2~7%。 |
地址 |
日本国新潟县新潟市北区濁川3993番地 |