一种气体离子源装置

摘要

一种气体离子源装置，其阳极由封闭的正面阳极和背面阳极构成阳极腔体，阴极由封闭的正面阴极和背面阴极构成阴极腔体；阴极腔体置于阳极腔体中，背面阴极与背面阳极构成气体放电离化室；阴极腔体中置有磁场发生装置，磁场发生装置与阴极腔体间空隙为冷却介质通道；在阴极腔体上有对应被加热工件的能量离子引出孔道，正面阳极上有对应孔道的孔洞。该装置将磁控溅射产生的气体离子一部分用于轰击阴极产生维持辉光放电的二次电子，另一部分通过孔道和孔洞引出轰击加热置于离子源外部的工件；离子束总密度可达安培级，可满足大尺寸基片工件高温加热需要；装置和被加热工件可移动，使工件不同部位加热均匀；能量离子密度可根据需要通过调节溅射电流密度改变。

主权项

一种气体离子源装置，包括阳极、阴极和磁场发生装置；其特征在于：所述阳极为由周边封闭的正面阳极和背面阳极构成的阳极腔体，背面阳极上有充气机构；所述阴极为由周边封闭的正面阴极和背面阴极构成的阴极腔体；阴极腔体置于阳极腔体中，阴极腔体的背面阴极与阳极腔体的背面阳极构成气体放电离化室；阴极腔体中置有磁场发生装置，磁场发生装置与阴极腔体间的空隙为冷却介质通道，阴极腔体两端分别设有绝缘的冷却介质入口和出口；对应被加热工件，在阴极腔体上有多个穿越阴极腔体、相互均匀间隔分布的能量离子引出孔道，在阳极腔体的正面阳极上开设有对应该能量离子引出孔道的孔洞，能量离子通过孔道和孔洞引出，轰击加热工件。