发明名称 电气电子设备用Cu-Zn-Sn合金
摘要 电气电子设备用Cu-Zn-Sn合金本发明的目的在于提供一种兼有必要且充分的导电率和强度,可适应电子设备部件的小型化、且低成本的铜合金。含有2~12质量%的Zn和0.1~1.0质量%的Sn,并将Sn的质量百分比浓度([%Sn])和Zn的质量百分比浓度([%Zn])的关系调整到0.5≤[%Sn]+0.16[%Zn]≤2.0的范围内,其余部分由铜和其不可避免的杂质构成,不可避免的杂质中S浓度小于等于30质量ppm、O浓度小于等于50质量ppm,在具有上述特征的铜合金中,能够以较低的成本获得:通过将晶粒形状和结晶方位调整到适当的范围内,从而具有大于等于35%IACS的电导率以及大于等于410MPa的拉伸强度,并可进行较差方式以及较好方式的180度贴合弯曲加工的铜合金。
申请公布号 CN1897171B 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN200610105676.2 申请日期 2006.07.17
申请人 JX日矿日石金属株式会社 发明人 波多野隆绍;新见寿宏;石川泰靖;滝千博
分类号 H01B1/02(2006.01)I;C22C9/04(2006.01)I;C22C1/00(2006.01)I;B21B1/00(2006.01)I 主分类号 H01B1/02(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 浦柏明;刘宗杰
主权项 一种电气电子设备用Cu‑Zn‑Sn系合金,其特征在于,含有2~12质量%的Zn和0.1~1.0质量%的Sn,将Sn的质量百分比浓度[%Sn]和Zn的质量百分比浓度[%Zn]的关系调整到式0.5≤[%Sn]+0.16[%Zn]≤2.0的范围内,其余部分由铜和其不可避免的杂质构成,不可避免的杂质中S浓度小于等于30质量ppm、O浓度小于等于50质量ppm,并且,具有大于等于35%IACS的电导率以及大于等于410MPa的拉伸强度,当设来自轧制面中的200面和220面的X射线衍射强度分别为I(200)和I(220),设来自铜粉末中的200面和220面的X射线衍射强度分别为Io(200)和Io(220)时,满足0.2≤I(200)/Io(200)≤1.02.0≤I(220)/Io(220)≤5.0,可进行较差方式以及较好方式的180度贴合弯曲加工,在与轧制面平行的截面的金属组织中,构成金属组织的晶粒具有向轧制方向延伸的形状,进而,当设晶粒的与轧制方向正交的方向的平均粒径为a、与轧制方向平行的方向的平均粒径为b时,具有如下的尺寸:a=1.0~10.0μmb/a=1.2~2.5。
地址 日本东京都