发明名称 有机电致发光显示装置及其制造方法
摘要 一种有机电致发光显示装置包含:相互相对设置且具有复数个画素区域之第一基板及第二基板;互相交叉限定画素区域之闸极线与资料线;平行且分离于闸极线之电力线;于第一基板之各个画素区域内互相连接之开关元件及驱动元件;位于第一基板上且连接至驱动元件之第一电极;位于第一电极上之注射层;位于注射层上之有机发光层;以及位于有机发光层上且为透明导电材料之第二电极。
申请公布号 TWI377865 申请公布日期 2012.11.21
申请号 TW095148663 申请日期 2006.12.22
申请人 乐金显示科技股份有限公司 发明人 朴冏敏;李锡宗;朴宰希;柳相镐
分类号 H05B33/10 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人 许世正 台北市信义区忠孝东路5段410号4楼
主权项 一种有机电致发光显示装置,包含有:一第一基板与一第二基板,系相对设置并包含复数个画素区域;闸极线与资料线,系互相交叉以限定复数个该画素区域;一电力线,系平行且分离于该闸极线;开关元件与驱动元件,系在该第一基板之复数个画素区域内互相连接;一第一电极,位于该第一基板上并连接至该驱动元件;一氧化层,位于该第一电极上;一注射层,位于该氧化层上,并且该注射层系由比该第一电极之材料具有更高反应率之一材料形成;一有机发光层,位于该注射层上;以及一透明导电材料之第二电极,系位于该有机发光层上。如申请专利范围第1项所述之装置,其中该注射层包含铝或硷金属。如申请专利范围第1项所述之装置,更包含一缓冲层,系位于该有机发光层与该第二电极之间。如申请专利范围第3项所述之装置,其中该有机发光层包含位于该注射层上之电子注射层、位于该电子注射层上之电子传输层、位于该电子传输层上之发光材料层、位于该发光材料层上之电洞传输层以及位于该电洞传输层上之电洞注射层。如申请专利范围第4项所述之装置,其中该缓冲层防止该电洞注射层被该第二电极损坏,以及自该第二电极注射一电洞至该电洞注射层。如申请专利范围第3项所述之装置,其中该缓冲层包含铜酞菁(CuPC)或五氧化二钒(V2O5)。如申请专利范围第6项所述之装置,其中该有机发光层包含位于该注射层上之电子注射层、位于该电子注射层上之电子传输层、位于该电子传输层上之发光材料层以及位于该发光材料层上之电洞传输层。如申请专利范围第7项所述之装置,该缓冲层防止该电洞传输层被该第二电极损坏,以及自该第二电极注射一电洞至该电洞传输层。如申请专利范围第2项所述之装置,其中该有机发光层包含位于该注射层上之电子传输层、位于该电子传输层上之发光材料层、位于该发光材料层上之电洞传输层以及位于该电洞传输层上之电洞注射层。如申请专利范围第1项所述之装置,更包含一储存电容与一介电层,该储存电容包含一第一储存电极与一第二储存电极,该介电层位于该第一储存电极与该第二储存电极之间,其中该第一储存电极以及该第二储存电极分别自该电力线与该开关元件处延伸。如申请专利范围第1项所述之装置,其中每个该开关元件与驱动元件包含一闸极、一半导体层以及互相分离之源极与汲极,并且其中该开关元件之汲极系连接至该驱动元件之闸极,该第一电极连接至该驱动元件之汲极。如申请专利范围第11项所述之装置,其中该开关元件与该驱动元件至少其中之一的源极为U形或环形,以及该开关元件与该驱动元件至少其中之一的汲极为条状或圆盘状。如申请专利范围第11项所述之装置,更包含:一闸极接垫,系位于该闸极线之一端;一资料接垫,系位于该资料线之一端;以及一电源接垫,系位于该电力线之一端。如申请专利范围第13项所述之装置,其中该资料线、该资料接垫、该电力线以及该电源接垫系形成于同一层,且由相同材料形成。如申请专利范围第11项所述之装置,其中该半导体层包含非晶矽。如申请专利范围第1项所述之装置,其中该透明导电材料包含氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。如申请专利范围第1项所述之装置,其中该第一电极包含工作函数低于该第二电极之导电材料。如申请专利范围第17项所述之装置,其中该导电材料包含铝或铝钕。如申请专利范围第1项所述之装置,其中该第一电极系形成于各个该画素区域内,并且该第二电极形成于该第一基板之整个表面上。如申请专利范围第1项所述之装置,其中该第一电极与该有机发光层系透过该注射层没有短路地互相电性连接。一种有机电致发光显示装置之制造方法,系包含以下步骤:形成互相连接之开关元件与驱动元件于包含有一画素区域之第一基板上;形成一第一电极形成于该驱动元件上并连接至该驱动元件,其中该第一电极被曝露出,并于该第一电极上形成一氧化层;形成一注射层于该氧化层上,并且该注射层系由比该第一电极之材料具有更高反应率之一材料形成;形成一有机发光层于该注射层上;形成一透明导电材料之第二电极于该有机发光层上;以及黏结一第二基板至该第一基板。如申请专利范围第21项所述之方法,更包含形成一缓冲层于该有机发光层上之步骤。如申请专利范围第21项所述之方法,其中该形成该有机发光层之步骤包含以下步骤:形成一电子传输层于该注射层上;形成一发光材料层于该电子传输层上;以及形成一电洞传输层于该发光材料层上。如申请专利范围第23项所述之方法,其中该形成该有机发光层之步骤更包含形成一电子注射层于该注射层上以及形成一缓冲层于该电洞传输层上之步骤。
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