发明名称 一种磁控管、磁控管的制造方法及物理沉积室
摘要 本发明提供一种磁控管、磁控管的制造方法及物理沉积室。其中,磁控管包括可绕靶材中心轴旋转的极性方向相反的内磁极和外磁极,内磁极为螺旋线形且设置于外磁极的内部,在内、外磁极之间形成包围内磁极的磁场轨道,由中心轴发射出去的任一角度的半径与磁场轨道相交一次或两次;磁控管绕中心轴旋转过程中,磁场轨道使靶材表面任一单位面积所获得的磁场扫描强度大致相等。利用上述磁控管进行磁控溅射工艺时,可实现对靶材径向的均匀腐蚀,从而可有效提高靶材的利用率及相关工艺的均匀性。此外,利用本发明提供的磁控管制造方法所获得的磁控管以及本发明提供的物理沉积室具有与上述磁控管相同或类似的优点。
申请公布号 CN102789941A 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201110128880.7 申请日期 2011.05.18
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 耿波;李杨超;武学伟;丁培军
分类号 H01J25/50(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;H01J9/00(2006.01)I 主分类号 H01J25/50(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 张天舒;陈源
主权项 一种磁控管,用于在磁控溅射工艺中对靶材进行磁场扫描,其特征在于,包括可绕靶材中心轴旋转的极性方向相反的内磁极和外磁极,其中,所述内磁极为螺旋线形且设置于所述外磁极的内部,在所述内、外磁极之间形成包围所述内磁极的磁场轨道,由所述中心轴发射出去的任一角度的半径与所述磁场轨道相交一次或两次;所述磁控管绕所述中心轴旋转过程中,所述磁场轨道使所述靶材表面任一单位面积所获得的磁场扫描强度大致相等。
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