发明名称 |
一种氧化铝下料装置 |
摘要 |
本实用新型涉及一种下料装置,尤其涉及一种氧化铝下料装置。由下述结构构成:壳体,壳体形状为三角形,壳体的一侧顶部设有进料口,壳体的一侧底部设有出料口;壳体的另一侧设有杂质出料管,杂质出料管的侧壁上部设有杂质进口,杂质进口与壳体内腔相通,进料口下方到杂质进口的底部之间设有筛网。本实用新型的优点效果:本实用新型减少氧化铝粉尘排放,滤除杂质,稳定下料,减少设备维护量。采用电磁驱动,用电量小,维护量小。 |
申请公布号 |
CN202542500U |
申请公布日期 |
2012.11.21 |
申请号 |
CN201220121462.5 |
申请日期 |
2012.03.28 |
申请人 |
沈阳铝镁科技有限公司 |
发明人 |
丁大勇;张国斌;赵冰洋;曹得志;李斌 |
分类号 |
B65G65/40(2006.01)I |
主分类号 |
B65G65/40(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳圣群专利事务所(普通合伙) 21221 |
代理人 |
王钢 |
主权项 |
一种氧化铝下料装置,其特征在于由下述结构构成:壳体,壳体形状为三角形,壳体的一侧顶部设有进料口,壳体的一侧底部设有出料口;壳体的另一侧设有杂质出料管,杂质出料管的侧壁上部设有杂质进口,杂质进口与壳体内腔相通,进料口下方到杂质进口的底部之间设有筛网。 |
地址 |
110001 辽宁省沈阳市和平区和平北大街184号 |