发明名称 一种氧化铝下料装置
摘要 本实用新型涉及一种下料装置,尤其涉及一种氧化铝下料装置。由下述结构构成:壳体,壳体形状为三角形,壳体的一侧顶部设有进料口,壳体的一侧底部设有出料口;壳体的另一侧设有杂质出料管,杂质出料管的侧壁上部设有杂质进口,杂质进口与壳体内腔相通,进料口下方到杂质进口的底部之间设有筛网。本实用新型的优点效果:本实用新型减少氧化铝粉尘排放,滤除杂质,稳定下料,减少设备维护量。采用电磁驱动,用电量小,维护量小。
申请公布号 CN202542500U 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201220121462.5 申请日期 2012.03.28
申请人 沈阳铝镁科技有限公司 发明人 丁大勇;张国斌;赵冰洋;曹得志;李斌
分类号 B65G65/40(2006.01)I 主分类号 B65G65/40(2006.01)I
代理机构 沈阳圣群专利事务所(普通合伙) 21221 代理人 王钢
主权项 一种氧化铝下料装置,其特征在于由下述结构构成:壳体,壳体形状为三角形,壳体的一侧顶部设有进料口,壳体的一侧底部设有出料口;壳体的另一侧设有杂质出料管,杂质出料管的侧壁上部设有杂质进口,杂质进口与壳体内腔相通,进料口下方到杂质进口的底部之间设有筛网。
地址 110001 辽宁省沈阳市和平区和平北大街184号
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