一种溅射设备

摘要

本实用新型公开了一种溅射设备，包括真空腔体，所述真空腔体内有清洁装置，所述清洁装置包括：空间移动导轨、滑轮组、滑轮驱动马达、静电发生器、静电吸尘器、打磨装置、打磨装置驱动马达；其中，空间移动导轨设置在溅射设备真空腔体内；滑轮组一端连接空间移动导轨，另一端连接滑轮驱动马达；滑轮驱动马达一端连接滑轮组，另一端连接静电发生器；静电发生器一端连接滑轮驱动马达，另一端连接静电吸尘器；打磨装置驱动马达一端位于静电发生器与静电吸尘器的连接处，另一端连接打磨装置；通过本实用新型的方案，能够在不打开真空腔体的情况下，通过控制滑轮驱动马达不断调整打磨装置接触ITO靶材的位置，实现清洁ITO靶材，提高设备稼动率。

主权项

一种溅射设备，包括真空腔体，其特征在于，所述真空腔体内有清洁装置，所述清洁装置包括：空间移动导轨、滑轮组、滑轮驱动马达、静电发生器、静电吸尘器、打磨装置驱动马达、打磨装置；其中，空间移动导轨设置在溅射设备真空腔体内；滑轮组一端连接空间移动导轨，另一端连接滑轮驱动马达；滑轮驱动马达一端连接滑轮组，另一端连接静电发生器；静电发生器一端连接滑轮驱动马达，另一端连接静电吸尘器，静电吸尘器用于吸附粉尘；打磨装置驱动马达一端位于静电发生器与静电吸尘器的连接处，另一端与打磨装置连接，打磨装置用于打磨氧化铟锡靶材。