发明名称 通孔互联型圆片级MOSFET封装结构及实现方法
摘要 本发明涉及一种通孔互联型圆片级MOSFET封装结构及实现方法,包括芯片本体(1-1),芯片本体正面设置有芯片源电极(2-1)和芯片栅电极(2-2),芯片本体、芯片源电极和芯片栅电极正面设置有芯片表面保护层(3),在芯片本体(1-1)正面和背面贯穿有芯片通孔(1-2),在芯片源电极(2-1)、芯片栅电极(2-2)和芯片表面保护层(3)的表面设置有线路层(4),以及在芯片通孔(1-2)内填充有线路层(4),且在芯片通孔(1-2)内填充的线路层(4)没有密闭芯片通孔(1-2),而是留有空腔的半填充结构,在芯片本体(1-1)的背面(1-3)设置与线路层(4)互联的背面金属层(7)。本发明可以提供具有高性能和高可靠性的封装结构,以及实现这种结构具有高生产效率、低封装成本的工艺方法。
申请公布号 CN102157408B 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201110033784.4 申请日期 2011.01.31
申请人 江阴长电先进封装有限公司 发明人 陈栋;张黎;陈锦辉;赖志明
分类号 H01L21/60(2006.01)I;H01L23/00(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L23/485(2006.01)I;H01L23/367(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 江阴市同盛专利事务所 32210 代理人 唐纫兰
主权项 一种通孔互联型圆片级MOSFET封装结构,包括芯片本体(1‑1),其特征在于:所述芯片本体(1‑1)正面设置有芯片源电极(2‑1)和芯片栅电极(2‑2),芯片本体(1‑1)、芯片源电极(2‑1)和芯片栅电极(2‑2)正面设置有芯片表面保护层(3),在芯片本体(1‑1)正面和背面贯穿有芯片通孔(1‑2),在所述芯片源电极(2‑1)、芯片栅电极(2‑2)和芯片表面保护层(3)的表面设置有线路层(4),以及在芯片通孔(1‑2)内填充有线路层(4),且在芯片通孔(1‑2)内填充的线路层(4)没有密闭芯片通孔(1‑2),而是留有空腔的半填充结构,而且线路层(4)直接与芯片通孔(1‑2)侧壁相连,之间无任何绝缘隔离层,在线路层(4)表面设置有线路表面保护层(5),在芯片本体(1‑1)正面的线路层(4)表面设置有焊球(6),在芯片本体(1‑1)的背面(1‑3)设置有背面金属层(7),且背面金属层(7)与线路层(4)互联。
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