发明名称 超疏水抗反射氧化锌纳米针阵列的制备方法
摘要 本发明公开了一种在玻璃表面构建的超疏水抗反射纳米针阵列结构及其制备方法,制备过程包括:I.基底清洁和晶种织构化;II.采用浓度梯度沉积的方法实现氧化锌纳米针阵列结构。通过晶种涂敷层数,晶种前驱液浓度和退火温度可以实现晶种大小和密度的控制;通过生长液的物料配比,生长液浓度,生长温度,生长时间等实验条件可以实现纳米针尺寸、形貌和密度的控制。纳米针阵列结构具有优异的宽光谱抗反射性能;进一步修饰低表面能物质后将同时具有非黏性超疏水和宽光谱抗反射双重性能;这种制备方法简单、易于实现功能无机纳米针阵列结构大面积低成本的制造。
申请公布号 CN101962269B 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201010281588.4 申请日期 2010.09.14
申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 高雪峰;田健
分类号 C03C17/25(2006.01)I 主分类号 C03C17/25(2006.01)I
代理机构 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 代理人 孙东风;王锋
主权项 在超疏水抗反射氧化锌纳米针阵列的制备方法,对应制备在各种普通玻璃和导电玻璃基底上,其特征在于主要包括以下两个步骤:Ⅰ、洁净基底表面的晶种织构化——配制用于晶种织构化所需的浓度介于5mM~5M的有机酸锌盐的前驱溶液,并对所述基底进行洁净化处理后,通过重复两次以上前驱溶液涂覆、退火的处理过程制备得到所需晶种大小和密度且均匀分布的前驱液膜,其中所述前驱溶液涂覆采用液相化学方法,而所述退火处理的温度范围介于50~600℃,温度误差控制在±5℃,且退火时间少于10h;Ⅱ、化学浴沉积——按比例1:1~1:10混合20mM~5M浓度的锌离子溶液和20mM~5M浓度的碱性溶液得到生长液,将步骤Ⅰ制得的晶种织构化的基底放入生长液中,控制温度为10~100℃保持15min~18h,制得基底上的氧化锌纳米针阵列。
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