发明名称 光催化剂的制造装置
摘要 本发明的光催化剂的制造方法,通过形成非晶的氧化钛,在含氧气氛中进行热处理,可以得到具有良好光催化作用的光催化剂。特别是利用反应性溅射法,在低温下以高成膜速度进行堆积,得到非晶的氧化钛。使用设有冷却手段的溅射装置,可以提高成膜工序的产量。
申请公布号 CN101695655B 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN200910161637.8 申请日期 2002.11.29
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 发明人 平冈纯治;高盐稔;福嶋哲弥;野口大辅;川又由雄
分类号 B01J21/06(2006.01)I;B01J37/00(2006.01)I;B01J37/08(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I 主分类号 B01J21/06(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 贾成功
主权项 一种光催化剂的制造装置,可以在比大气减压的气氛中,在基体上堆积非晶的氧化钛,其特征在于,具有:冷却所述基体的冷却装置;可以在比大气减压的气氛中使氧化物构成的包敷层堆积在所述基体上的堆积装置;可以在含氧的气氛中加热所述基体的热处理室,在所述基体上堆积所述非晶的氧化钛之后,在所述热处理室中加热,由此使所述氧化钛的至少一部分结晶,然后利用所述堆积装置堆积由所述氧化物构成的被覆层。
地址 日本神奈川