发明名称 |
热反应设备及使用其的方法 |
摘要 |
一种用于执行矩阵反应的M×N矩阵微流体设备,所述设备具有与样本入口或试剂入口中之一通过通孔相连通的多个反应单元,所述通孔形成在设备的弹性材料块。提供的方法包括在微流体设备的弹性材料块的弹性材料层中并行形成通孔的方法,所述方法包括使用已图案化的光致抗蚀剂掩膜和蚀刻剂蚀刻掉弹性材料块的弹性材料层中的区域或部分。 |
申请公布号 |
CN102778432A |
申请公布日期 |
2012.11.14 |
申请号 |
CN201210270352.X |
申请日期 |
2005.05.02 |
申请人 |
弗卢丁公司 |
发明人 |
费德里科·顾特塞德;马克·A·恩格;黄江;埃默森·全;罗伯特·格罗斯曼;菲里普·林;周厚朴;吉克·金保尔;马丁·皮普瑞兹克;杰弗里·费塞 |
分类号 |
G01N21/00(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I;G01N31/22(2006.01)I;G01N15/06(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
杨娟奕 |
主权项 |
一种实现弹性材料块中纵横比特征的方法,所述方法包括步骤:·提供第一弹性材料层;·将光致抗蚀剂层应用在所述第一弹性材料层表面上;·将光图案应用至所述光致抗蚀剂层,以形成已反应的光致抗蚀剂材料图案;·去除未反应的光致抗蚀剂材料,在所述第一弹性材料层的所述表面上剩下已反应的光致抗蚀剂材料图案;·将蚀刻剂应用到所述第一弹性材料表面,以蚀刻没有由已反应的光致抗蚀剂材料的所述图案所覆盖的所述第一弹性材料层的所述表面,从而去除没有由已反应的光致抗蚀剂的所述图案所覆盖的所述第一弹性材料层的区域,进而剩下对应于已反应的光致抗蚀剂材料的所述图案的所述弹性材料层的图案,其中从侧面看去时,纵横比等于或大于:高度是特征宽度的长度的至少两倍。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |