发明名称 超声波清洗装置及超声波清洗方法
摘要 本发明为超声波清洗装置,至少具有:清洗槽,收容有清洗液,以浸渍并清洗被清洗物;超声波传递槽,收容有将超声波传递至清洗槽的传递水;振动板,设在超声波传递槽下部且根据振动件将超声波重叠在传递水中;保持夹具,用以将要清洗的被清洗物保持在清洗槽中;被清洗物被保持夹具保持并被浸于清洗槽的清洗液中,清洗槽被浸在超声波传递槽内的传递水中,且使根据振动板而重叠的超声波经传递水传递至清洗槽,由此对被清洗物进行超声波清洗,该装置配有传递槽摇动机构,用以使超声波传递槽在水平面内摇动。由此提供超声波清洗装置及超声波清洗方法,能抑制超声波清洗中被清洗物的清洗不均的情况并能减少清洗槽数量而降低装置成本,而能有效除去微粒。
申请公布号 CN101959620B 申请公布日期 2012.11.14
申请号 CN200980106927.0 申请日期 2009.01.23
申请人 信越半导体股份有限公司 发明人 阿部达夫;椛泽均;新井泉
分类号 B08B3/12(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I 主分类号 B08B3/12(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 郭晓东;马少东
主权项 一种超声波清洗装置,至少具有:清洗槽,其收容有清洗液,用于浸渍并清洗被清洗物;超声波传递槽,其收容有用于将超声波传递至该清洗槽中的传递水;振动板,其被配置在所述超声波传递槽的下部,且根据振动件,将超声波重叠在所述传递水中;保持夹具,其用以将要进行清洗的被清洗物保持在所述清洗槽中;所述被清洗物被所述保持夹具保持,并被浸渍在所述清洗槽内的清洗液中,所述清洗槽被浸在所述超声波传递槽内的传递水中,且使根据所述振动板而重叠后的超声波经由传递水而传递至清洗槽中,由此对所述被清洗物进行超声波清洗,其中,该超声波清洗装置具有传递槽摇动机构,用以使所述超声波传递槽在水平面内摇动。
地址 日本东京都
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