发明名称 涡轮分子泵装置
摘要 一种涡轮分子泵装置,其包括:涡轮分子泵主体;电源单元,其驱动涡轮分子泵主体;以及水冷却单元,其设置于涡轮分子泵主体和电源单元之间,其中,设置于电源单元的壳体中的组件被分类成需要强冷却的需强冷却的组件、需要中等冷却的需中等冷却的组件以及基本不需要冷却的无需冷却的组件,需强冷却的组件被安装于与水冷却单元接触的第一高导热基板,需中等冷却的组件被安装于与壳体的内表面接触的第二高导热基板,无需冷却的组件被安装于配置在第一高导热基板和第二高导热基板之间的空间中的基板。
申请公布号 CN102782331A 申请公布日期 2012.11.14
申请号 CN201080065127.1 申请日期 2010.03.11
申请人 株式会社岛津制作所 发明人 长野善宏;大藤正干;小崎纯一郎
分类号 F04D19/04(2006.01)I 主分类号 F04D19/04(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种涡轮分子泵装置,其包括:涡轮分子泵主体;电源单元,其驱动所述涡轮分子泵主体;以及水冷却单元,其设置于所述涡轮分子泵主体和所述电源单元之间,其中设置在所述电源单元的壳体中的组件被分类成需要强冷却的需强冷却的组件、需要中等冷却的需中等冷却的组件以及基本不需要冷却的无需冷却的组件,所述需强冷却的组件配置于用于通过热传递至所述水冷却单元来冷却的第一空间,所述需中等冷却的组件配置于用于通过热传递至所述壳体的内表面来冷却的第二空间,以及所述无需冷却的组件配置于用于通过所述壳体内的热辐射或局部对流来冷却的第三空间。
地址 日本京都府