一种氧化镍基记忆存储薄膜微细图形的制备方法

摘要

本发明公开了一种氧化镍基记忆存储薄膜微细图形的制备方法，先进行感光性氧化镍基凝胶膜的制备，然后通过浸渍提拉法制备得到氧化镍基凝胶膜，最后用紫外光或激光束照射氧化镍基凝胶膜，溶洗后即得。通过一个过程可以实现凝胶膜的制备与微细加工，这样避免了光刻胶的使用，缩短了光刻周期，以及复杂设备的支持，很容易获得所需图形的功能薄膜，且薄膜的性能不会受到影响。

主权项

一种氧化镍基记忆存储薄膜微细图形的制备方法，其特征在于，按照以下步骤实施：步骤1．具有感光性氧化镍基凝胶膜的制备将醋酸镍加入到乙二醇甲醚中，其中镍离子的摩尔浓度为：0.5‑0.6mol/L，用磁力搅拌器搅拌至醋酸镍充分溶解在乙二醇甲醚中，再加入化学修饰剂继续搅拌，直至混合液澄清，得到绿色透明的氧化镍溶胶，静置20~24小时后待用；步骤2．通过浸渍提拉法制备得到氧化镍基凝胶膜将硅基板在稀硝酸中清洗，去除其表面的氧化层，随后将步骤1制备好的溶胶利用浸渍提拉法在硅基板上制备一层氧化镍基凝胶膜；步骤3．氧化镍基凝胶膜微细图形的制备a.特殊图形的微细图形的制备若微细图形为特殊预设图形，则将步骤2制备的氧化镍基凝胶膜干燥5‑10分钟，然后在氧化镍基凝胶膜上固定掩模板，之后再以紫外灯为曝光光源，将固定了掩模板的氧化镍基凝胶膜辐照10‑15分钟，随后在溶洗剂中溶洗，即可获得氧化镍基凝胶膜的微细图形；b.光栅图形的制备若微细图形为光栅图形，将步骤2制备的氧化镍基凝胶膜用氪离子激光器进行照射12‑18分钟，随后在乙醇中溶洗1分钟，得到光栅图形，即氧化镍基凝胶膜的微细图形。