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Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Silicium, umfassend ein Abscheiden von Silicium in einem Reaktor auf einer Vielzahl an Füllkörpern (2), die sich im Inneren eines rohrförmigen, beheizten Trägerkörpers (1) befinden, der die Füllkörper (2) auf eine Temperatur aufheizt, bei der Silicium an den Füllkörpern (2) durch thermische Zersetzung eines Silicium enthaltenden Gases abgeschieden wird; sowie ein anschließendes Aufheizen des rohrförmigen Trägerkörpers (1), so dass die Füllkörper (2) auf eine Temperatur aufgeheizt werden, die wenigstens der Schmelztemperatur von Silicium entspricht, wobei dadurch abgeschiedenes Silicium von den Füllkörpern (2) abschmilzt und in eine Aufnahmevorrichtung (6) für flüssiges Silicium abfließt. Vorrichtung zur Herstellung von Silicium, umfassend eine rohrförmigen, aufheizbaren Trägerkörper (1), wobei sich innerhalb des Rohres Füllkörper (2), umfassend ein Material ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Graphit, SiC, Si3N und Quarz, wenigstens eine Zuleitung (7) für Reaktionsgas sowie wenigstens eine Abgasleitung, zwei elektrische Anschlusselemente (3), um ein Aufheizen des Trägerkörpers (1) zu bewerkstelligen, sowie eine Ableitung (5), geeignet um flüssiges Silicium aus der Vorrichtung in eine Aufnahmevorrichtung (6) abzuführen. |
