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发明名称 Method for forming thin film by atomic layer deposition, metal line having the thin film in semiconductor device and method for manufacturing the same
摘要
申请公布号 KR101196746(B1) 申请公布日期 2012.11.07
申请号 KR20100074405 申请日期 2010.07.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/28 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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